光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家
低溫隔振平臺(cvip)：低溫隔振平臺(cvip)是一種被動隔振平臺，具有z、rx和ry的地板振動衰減能力。低溫隔振平臺直接放置在低溫恒溫器的冷板上進(jìn)行實驗。低溫隔振平臺是一個相對堅硬的彈簧設(shè)計，這導(dǎo)致了非典型的高截止頻率和高載荷。雖然這將限制低頻的阻尼，但與傳統(tǒng)的截止頻率低的阻尼器相比，低溫隔振平臺對在冷板和實驗之間增加電纜和熱編織更加不敏感，突破了常規(guī)阻尼器穩(wěn)定性的限制因素。
更新時間:2025-01-15
光學(xué)鑒頻器(ofd)系統(tǒng)巧妙地發(fā)送與輸入激光束頻率波動成正比的電壓信號。該模塊適用于激光頻率噪聲表征或激光頻率穩(wěn)定,以大幅度降低其光全寬度在zui大線寬的一半。ofd具有超低噪聲性能，成功實現(xiàn)頻率噪聲水平低至0.1 hz/hz。該光學(xué)鑒頻器系統(tǒng)覆蓋了從uv、vis、nir 到 mir的巨大波長范圍，該系統(tǒng)使用簡單,只需按一個按鈕即可將 mhz 線寬激光器轉(zhuǎn)換為 hz 線寬激光器。
更新時間:2025-01-15
adz 系列傳承了豐碩業(yè)績帶來的設(shè)計理念，針對客戶各種需求能一一作出解答。adz 系列的產(chǎn)品是自由多變、可轉(zhuǎn)換型系列產(chǎn)品。adz 系列產(chǎn)品進(jìn)一步提高了除振性能，大幅改善工作的舒適性，從而提高工作積極性與工作效率。同時，追加了更大尺寸的負(fù)載臺，提高了負(fù)載臺的操作性。以上特點(diǎn)，避免了您為選擇負(fù)載機(jī)器的種類和使用場所的苦惱，實現(xiàn)了高性價比的除振裝置。
更新時間:2025-01-15
因為光學(xué)實驗對除振功能并沒有特殊的要求，針對于光學(xué)實驗用平臺，我們?yōu)槟峁┚哂懈邉傂、高阻尼的輕量級rhs 系列產(chǎn)品。我們?yōu)槟峁┑漠a(chǎn)品是搭配了蜂窩平板，并應(yīng)用了橡膠阻尼式除振裝置的平臺。因此，我們的產(chǎn)品能確保光學(xué)平臺所有特性的高水準(zhǔn)。如果您對除振功能有需求，我們的產(chǎn)品也能滿足您的任何要求。
更新時間:2025-01-15
dvia精密主動隔振光學(xué)平臺具有非常優(yōu)秀的隔振性能，特別是在低頻0.5hz- 10hz達(dá)到90%以上的隔振效率，隔振性能優(yōu)異,廣泛應(yīng)用于掃描探針顯微鏡,原子力顯微鏡，掃面隧道顯微鏡，激光干涉儀 ,半導(dǎo)體檢測設(shè)備，三維形貌分析儀和激光共聚焦顯微鏡等
更新時間:2025-01-15
nano系列小型主動隔振平臺，專為小型和輕型應(yīng)用而設(shè)計！自從高分辨率測量和制造技術(shù)達(dá)到納米尺度以來，振動就一直是一個重要問題。有*消除振動干擾是獲得精確和可重復(fù)測量結(jié)果的關(guān)鍵。解決方法是將儀器與振動源隔離開來。
更新時間:2025-01-15
variobasic 系列主動隔振光學(xué)平臺，兩個或四個模塊化手動負(fù)載調(diào)節(jié)隔振元件和控制器，適用于大負(fù)載場景安裝在臺面下方或設(shè)備下方，用于消除低頻震動。
更新時間:2025-01-15
workstation 集成i4的人體工程學(xué)實驗臺，將i4隔振平臺與桌面集成在一起的主動隔振平臺桌。
更新時間:2025-01-15
workstation vario集成vario實驗臺，集成vario的人體工程學(xué)實驗臺，下方帶有腳輪便于移動，便于實驗。適用于搭配3d輪廓儀、電子顯微鏡等。
更新時間:2025-01-15
歐庫睿因sandwich 系列重負(fù)載隔振平臺，重負(fù)載主動隔振平臺，最大負(fù)載1200kg,可放置于光學(xué)平臺或大型設(shè)備下方，具有良好的負(fù)載以及主動隔振性能。
更新時間:2025-01-15
duo系列 重載主動隔振平臺，重載型主動隔振模組、單個模組可負(fù)載400kg,可多個模塊并聯(lián)使用，適用于大負(fù)載設(shè)備主動隔振。
更新時間:2025-01-15
ae系列隔音罩 隔離空氣噪聲，適用于相關(guān)設(shè)備的隔除噪音，搭配主動隔振平臺或者光學(xué)平臺使用，有多種尺寸可以選擇。
更新時間:2025-01-15
zdvt系列為卓立漢光研發(fā)的桌面型氣浮隔振光學(xué)平臺，采用半膜片式空氣彈簧技術(shù)，配合鐵磁不銹鋼臺面和桌面型框架精密裝調(diào)而成， 整體高度211mm，分為氣浮式桌面型框架和臺面兩部分。
更新時間:2025-01-15
拼接式隔振平臺定制型的本質(zhì)還是隔振平臺，是標(biāo)準(zhǔn)的平臺按照使用者的需求連接起來，達(dá)到實際的使用效果，采用拼接的方式，是實現(xiàn)這一目的的方法。
更新時間:2025-01-15
nap系列是卓立漢光采用三線擺技術(shù)、層流阻尼技術(shù)所設(shè)計的高性能氣浮隔振平臺，豎直方向和水平方向隔振性能好、振動恢復(fù)時間短。
更新時間:2025-01-15
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統(tǒng)· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過全方位的設(shè)計優(yōu)化，實現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
更新時間:2025-01-15
美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
更新時間:2025-01-15
nanoarch p130是科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時間:2025-01-15
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時間:2025-01-15
30型uv光源是高效的，可用于各種應(yīng)用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產(chǎn)生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當(dāng)?shù)臒簦òǎ。輸出功率范圍?00瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過濾器組件，使用戶能夠輕松定制輸出光譜？蛇x配遠(yuǎn)程排氣風(fēng)扇。
更新時間:2025-01-15
oai 200型光刻機(jī)是一種具有成本效益的高性能掩模對準(zhǔn)器，采用經(jīng)過行業(yè)驗證的組件，使oai成為光刻設(shè)備行業(yè)的導(dǎo)者。 200型是臺式面罩對準(zhǔn)器，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點(diǎn)生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調(diào)平系統(tǒng)，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對準(zhǔn)和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)一微米分辨率和對準(zhǔn)精度。
更新時間:2025-01-15
2012sm型自動邊緣曝光系統(tǒng)為使用標(biāo)準(zhǔn)陰影掩模技術(shù)的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的方法。 設(shè)計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時間:2025-01-15
2012sm型自動邊緣曝光系統(tǒng)為使用標(biāo)準(zhǔn)陰影掩模技術(shù)的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的方法。 設(shè)計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時間:2025-01-15
兩種型號的2000型曝光系統(tǒng)包括uv光源，強(qiáng)度控制電源和機(jī)器人襯底處理子系統(tǒng)。 uv光源提供發(fā)散半角<2.0％的可調(diào)強(qiáng)度光束。電源從200w到2,000w。強(qiáng)度控制器傳感器直接連接到光源，用于精確的強(qiáng)度監(jiān)控。機(jī)器人襯底處理系統(tǒng)是微處理器控制的，并且可以被編程以適應(yīng)各種各樣的襯底尺寸。
更新時間:2025-01-15
oai 5000e型大面積掩光刻機(jī)是一種先進(jìn)的高性能，全自動掩模對準(zhǔn)器和曝光工具，可為大型平板應(yīng)用提供超精密，頂，亞微米對準(zhǔn)和分辨率。 其靈活的設(shè)計允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達(dá)300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計算機(jī)控制的led顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。
更新時間:2025-01-15
phabler 100 紫外光刻機(jī)是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術(shù)，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結(jié)果非常均勻，質(zhì)量很好。
更新時間:2025-01-15
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。
更新時間:2025-01-15
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。
更新時間:2025-01-15
德國raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機(jī),系統(tǒng)可實現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關(guān)鍵的指標(biāo)，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對外界環(huán)境的容忍度。
更新時間:2025-01-15
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺設(shè)計，對電子束直寫應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時間:2025-01-15
系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺，運(yùn)動行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實現(xiàn)精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新時間:2025-01-15
瑞典 mycronic 掩膜版光刻機(jī) fps6100，用于制作高精度掩膜版，廣泛用于半導(dǎo)體，tft-lcd，微電子等行業(yè)。
更新時間:2025-01-15
英國nanobean nb5 電子束光刻機(jī),具有良好的穩(wěn)定性，平均正常運(yùn)行時間超過93%.
更新時間:2025-01-15
minilock-phantom iii 具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)。適用于單個基片或帶承片盤的基片(3” - 300mm尺寸)，為實驗室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供最先進(jìn)的刻蝕能力。它也具有多尺寸批量處理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。
更新時間:2025-01-15
oracle iii由中央真空傳輸系統(tǒng)(cvt)、真空盒升降機(jī)和最多四個工藝反應(yīng)室構(gòu)成。這些工藝反應(yīng)室與中央負(fù)載鎖對接，既能夠以生產(chǎn)模式運(yùn)行，也能夠作為單個系統(tǒng)獨(dú)立作業(yè)。 oracle iii是市場上最靈活的系統(tǒng)，既可以為實驗室環(huán)境進(jìn)行配置(使用單基片裝卸)，也可以為批量生產(chǎn)進(jìn)行配置(使用真空盒升降機(jī)進(jìn)行基片傳送)。
更新時間:2025-01-15
titan是一套用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的十分緊湊、全自動化、帶預(yù)真空室的等離子系統(tǒng)。titan具有反應(yīng)離子刻蝕(rie)配置、高密度電感耦合等離子沉積(hdicp)或等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(pecvd)配置？蓪蝹基片或帶承片盤的基片(3”-300mm)進(jìn)行處理。它還具有多尺寸批量處理功能。價格適宜且占地面積小。
更新時間:2025-01-15
美國trion orion iii pecvd 薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。獨(dú)特的反應(yīng)器設(shè)計可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系統(tǒng)可以滿足實驗室和中試生產(chǎn)環(huán)境中的所有安全，設(shè)施和工藝標(biāo)準(zhǔn)要求。
更新時間:2025-01-15
orion hdcvd 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在惰性氣體進(jìn)入口安裝感應(yīng)線圈，周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當(dāng)惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時，會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，然后在襯底表面沉積一層薄膜.
更新時間:2025-01-15
德zeiss sigma sem 電子束直寫儀,利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（小線寬為10mm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件，光子晶體，低維半導(dǎo)體等沿域。
更新時間:2025-01-15
俄羅斯 optosystem 準(zhǔn)分子激光器：cl7000, 準(zhǔn)分子激光器是傳統(tǒng)的氣體激光器，由于波長短（紫外），短脈沖寬度，高脈沖能量，是激光器家族不可替代的品種！應(yīng)用上，準(zhǔn)分子激光器在脈沖沉積鍍膜（pld），光纖光柵刻寫，lasik，光刻，微納加工等方面占主導(dǎo)的地位。
更新時間:2025-01-15
denton 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺,提供了薄膜工業(yè)中廣泛的配置和沉積模式:電子束蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。
更新時間:2025-01-15
法plassys超高真空多腔體電子束鍍膜機(jī)meb550sl3，可以用于沉積ti, ni, au, cr, al, al2o3等金屬及氧化物薄膜，目全球主要超導(dǎo)量子實驗室均使用該設(shè)備制備超導(dǎo)al結(jié)（量子比特和約瑟夫森結(jié)）和量子器件，可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復(fù)性超導(dǎo)結(jié)。
更新時間:2025-01-15
美arradiance 臺式三維原子沉積系統(tǒng)ald，在小巧的機(jī)身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可最多容納9片8英寸基片同時沉積。gemstar xt全系配備熱壁，結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設(shè)計，使溫度均勻性高達(dá)99.9%，氣流對溫度影響減少到0.03%以下。
更新時間:2025-01-15
德國 sentech pe-ald 等離子體增強(qiáng)--原子層沉積系統(tǒng)，是在3d結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步加入置物實現(xiàn)。等離子增強(qiáng)原子層沉積（peald）是用等離子化的氣態(tài)原子替代水作為氧化物來增強(qiáng)ald性能的先進(jìn)方法。
更新時間:2025-01-15
德國 sentech si 500 d 等離子沉積機(jī)，具有特殊的等離子體特性，如高密度、低離子能量和介質(zhì)膜的低壓沉積。
更新時間:2025-01-15
德國sentech pecvd si 500 ppd等離子沉積機(jī),。它是基于平面電容耦合等離子體源，真空加載鎖定，控溫基片電，可選配低頻混頻，全控?zé)o油真空系統(tǒng)采用先進(jìn)的森泰克控制軟件，采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)，具有非常友好的通用用戶界面用于操作si 500 ppd的用戶界面。
更新時間:2025-01-15
最新產(chǎn)品
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- 得樂TECLOCK指針式千分表 2025/1/15 21:45:18
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