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電熱板產(chǎn)品及廠家

智能型烤膠機，自動烤膠臺
智能型烤膠機，自動烤膠臺適應(yīng)于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。熱板溫度穩(wěn)定度高，重復性好？稍诠さV企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學之用。
更新時間:2024-12-27
可程式恒溫加熱臺，可替代進口的精密加熱臺
可程式恒溫加熱臺，可替代進口的精密加熱臺用于半導體光刻工藝的烘和堅膜、電路模塊的涂敷燒結(jié)和考核等工藝。適用于材料學、ic芯片、半導體、醫(yī)療、冶金學、生物化學、有機化學、高分子及納米材料科學而研制。
更新時間:2024-12-27
小型烘膠臺定制，恒溫烤膠臺說明
小型烘膠臺定制，恒溫烤膠臺說明可在光刻工藝中的涂膠后的軟烘，暴光后烘，顯影后的堅膜，磨片粘片熔臘等，它采用整體鑄造，加熱板作為加熱體，增強了設(shè)備的安全性。又名烘膠臺，烤膠臺，加熱平臺，烤膠板，熱臺，熱板等。
更新時間:2024-12-27
均勻性0.5度的恒溫加熱臺，可編程恒溫熱板
均勻性0.5度的恒溫加熱臺，可編程恒溫熱板用于固化光刻膠，固化環(huán)氧塑脂，可用于顯微鏡下使用以及其它需要高精度控溫的場合等。適用于半導體光刻工藝的烘和堅膜、電路模塊的涂敷燒結(jié)和考核等工藝。
更新時間:2024-12-27
掩膜版烘烤機，光罩版恒溫熱板
掩膜版烘烤機，光罩版恒溫熱板適用于半導體光刻工藝的烘和堅膜、電路模塊的涂敷燒結(jié)和考核等工藝。工業(yè)各行業(yè)恒溫加熱樣品的烘焙、干燥和作其他溫度試驗，是生物、遺傳、醫(yī)藥衛(wèi)生、環(huán)保、生化實驗室、分析室、教學研究的的工具
更新時間:2024-12-27
精密烤膠臺，高精度烘膠機
精密烤膠臺，高精度烘膠機用于晶圓的單面烘烤，可用于預烘烤（pre-bake），烘（soft bake），底膠涂覆（primer vapor）和后烘烤(hardbake堅膜)工藝。適應(yīng)于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。
更新時間:2024-12-27
精密烤膠機，高精度烘膠臺
精密烤膠機，高精度烘膠臺我司針對研究的需要設(shè)計了一種溫度控制精度高,板面溫度均勻性好,成本低的電加熱板,用于光刻膠的烘干
更新時間:2024-12-27
高精度晶圓熱板，恒溫加熱臺
高精度晶圓熱板，恒溫加熱臺適應(yīng)于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化，電路模塊的涂敷燒結(jié)和考核。熱板溫度穩(wěn)定度高，重復性好？稍诠さV企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學之用。
更新時間:2024-12-27
半導體光刻膠烤膠機，基片烘膠臺定制
半導體光刻膠烤膠機，基片烘膠臺定制用于晶圓的單面烘烤，可用于預烘烤（pre-bake），烘（soft bake），底膠涂覆（primer vapor）和后烘烤(hardbake堅膜)工藝。適應(yīng)于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。熱板溫度穩(wěn)定度高，重復性好。
更新時間:2024-12-27
充氮恒溫熱板，氮氣高溫加熱臺
充氮恒溫熱板，氮氣高溫加熱臺應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、掩膜版烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).
更新時間:2024-12-27
高精度數(shù)顯恒溫加熱臺
高精度數(shù)顯恒溫加熱臺硬烘烤的目的是除去光刻膠內(nèi)的殘余溶劑、增加光刻膠的強度，并通過進一步的聚合作用改進光刻膠的刻蝕與離子注入的抵抗力，增強了光刻膠的附著力。
更新時間:2024-12-27
數(shù)顯恒溫加熱臺，高精度加熱臺
數(shù)顯恒溫加熱臺，高精度加熱臺用于晶圓的單面烘烤，可用于預烘烤（pre-bake），烘（soft bake），底膠涂覆（primer vapor）和后烘烤(hardbake堅膜)工藝。適應(yīng)于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。熱板溫度穩(wěn)定度高，重復性好。可在工礦企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學之用。
更新時間:2024-12-27
HMDS烘箱，臺灣hmds烤箱
hmds烘箱，臺灣hmds烤箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2024-12-27

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