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加熱爐/電爐產(chǎn)品及廠家

高真空鉭加熱爐
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:高真空鉭加熱爐是高溫電阻加熱爐。以鉭為加熱元件,適用于高真空狀態(tài)下對(duì)金屬、非金屬及其化合物進(jìn)行燒結(jié)、熔化,也可以對(duì)小型樣品進(jìn)行真空釬焊的操作,如硬質(zhì)合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。高真空鉭加熱爐極限工作溫度為2000℃,工作溫度≤1800℃,工作過程中的加熱速度可以通過溫控表進(jìn)行設(shè)置,但升溫速度過快會(huì)使鉭爐膽的壽命會(huì)有所降低,為了延長爐子的使用壽命,推薦每分鐘的升溫速度為20℃,在500℃以下可以適當(dāng)加快升溫速度。該爐溫控表最多可以儲(chǔ)存4組程序,每組程序最多可以設(shè)定10個(gè)加熱步驟,在10個(gè)步驟中可以對(duì)樣品進(jìn)行
更新時(shí)間:2025-01-02
1700℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅱ
1700℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐gsl-1700x-ⅱ每個(gè)溫區(qū)長300mm,由30段智能溫度調(diào)節(jié)儀進(jìn)行控溫,采用硅鉬棒加熱元件溫度可達(dá)1700℃,采用硅碳棒加熱元件溫度可達(dá)1400℃,通過調(diào)節(jié)兩個(gè)溫區(qū)的控溫程序使?fàn)t管內(nèi)溫度場(chǎng)形成一溫度梯度。本機(jī)可用于cvd或pvd方法來生長納米材料和制作各種薄膜。
更新時(shí)間:2025-01-02
1400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-II
400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐gsl-1400x-ii以硅碳棒為加熱元件,采用s型單鉑銠熱電偶測(cè)溫和518p溫控儀自動(dòng)控溫。本機(jī)設(shè)有真空裝置,可在多種氣氛下工作,主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e(cvd)等工藝,特別適合批量生產(chǎn)使用。
更新時(shí)間:2025-01-02
1100℃帶校準(zhǔn)系統(tǒng)管式爐GSL-1100X-50-LVT
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:1100℃帶校準(zhǔn)系統(tǒng)管式爐gsl-1100x-50-lvt是分體式真空管式爐,配有 omega 測(cè)溫儀及k 型熱電偶一套,將k型熱偶從左端法蘭安裝于爐管內(nèi)部,即可在omega測(cè)溫儀上讀取樣品實(shí)時(shí)溫度。采用30段可編程溫度控制儀,可根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求設(shè)置所需要的升溫速率。但要注意爐體在加熱過程中真空度不能高于10-2torr,否則容易造成爐管的損壞 。
更新時(shí)間:2025-01-02
真空熱壓爐OTF-1200X-VHP4
真空熱壓爐otf-1200x-vhp4是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想工具,在5t壓力下可鍵合多層基片。本機(jī)可以加熱到1100 ℃,并設(shè)有30段控溫程序。
更新時(shí)間:2025-01-02
SKJ-M50-16金屬晶體生長爐
skj-m50-16金屬晶體生長爐是用坩堝下降法生長金屬晶體的設(shè)備,可在真空、大氣、惰性氣體或其他保護(hù)氣氛下、在可控的局部壓力狀態(tài)下運(yùn)行。根據(jù)金屬的屬性,本機(jī)可采用中頻感應(yīng)加熱電源,以及石墨電阻加熱兩種加熱方式;采用歐陸微處理器與熱電偶閉環(huán)控制爐溫,使結(jié)晶體按照一定的直徑進(jìn)行控制。
更新時(shí)間:2025-01-02
SKJ-50晶體生長爐
skj-50晶體生長爐是用提拉法生長高質(zhì)量氧化物單晶及金屬單晶,如藍(lán)寶石、ggg、yag、srlaalo4、laalo3、si、ge等,最大可長出晶體尺寸達(dá)3" 。
更新時(shí)間:2025-01-02
1400℃鐘罩爐KSL-1400X-BL
1400℃鐘罩爐ksl-1400x-bl是大型的鐘罩爐,其最高溫度為1400℃,容積為512l,是金屬退火和高溫?zé)Y(jié)的最佳理想設(shè)備。 1400℃鐘罩爐ksl-1400x-bl是大型的鐘罩爐,其最高溫度為1400℃,容積為512l,是金屬退火和高溫?zé)Y(jié)的最佳理想設(shè)備。 1400℃鐘罩爐ksl-1400x-bl是大型的鐘罩爐,其最高溫度為1400℃,容積為512l,是金屬退火和高溫?zé)Y(jié)的最佳理想設(shè)備。 1400℃鐘罩爐ksl-1400x-bl是大型的鐘罩爐,其最高溫度為1400℃,容積為512l,是金屬退火和高溫?zé)Y(jié)的最佳理想設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-01-02
臺(tái)車爐ZWDL-900X
臺(tái)車爐zwdl-900x是箱式高溫?zé)Y(jié)爐,為分體結(jié)構(gòu),爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料,采用硅碳棒為加熱元件。工件式樣在箱體中加熱,加熱元件均勻的裝于兩壁,有效的保證了溫場(chǎng)的均勻性。測(cè)溫采用性能穩(wěn)定,長壽命的“s”型熱電偶,以提高控溫的精準(zhǔn)性。
更新時(shí)間:2025-01-02
可滑動(dòng)RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL
可滑動(dòng)rtp爐otf-1200x-4-rtp-sl是一種快速熱處理爐,采用紅外燈加熱和移動(dòng)爐體快速冷卻,可獲得最高升溫速率為100°c/s 、降
更新時(shí)間:2025-01-02
1200℃熔煉、鑄造爐VMCS-1200-LD
200℃熔煉/鑄造爐vmcs-1200-ld最高溫度可達(dá)1200℃,適合在氣氛保護(hù)環(huán)境下熔煉各種合金。采用封閉腔體,以保證在對(duì)樣品熔煉和澆注的過程中不生成氧化物及缺陷。對(duì)于合金探索是理想的實(shí)驗(yàn)幫手。
更新時(shí)間:2025-01-02

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